在半导体制作工艺中.50%以上的工序中硅片与超纯水直接接触、80%以上的工序需要进行化学处理，而化学处理又与超纯水有关水中的杂质会进入硅片，如带入过量的杂质，就会导致器件性能下降.影响产品性能因此，制备高品质的超纯水已成为发展大规模集成电路的重要前提技术，如果您正在找经验丰富的半导体行业专用超纯水设备生产公司，请考虑东莞佳洁。您可以从性价比，专业度来考量。
一，半导体行业超纯水工艺要满足以下的特点：
1.1水量大、水质高
微电子行业的发展循环周期大约为2年，这就需要不断提高超纯水的水质如表1所示，集成电路的结构变化对应超纯水的水质参数。而且，砖片直径的加大，需要超纯水的水最增大；

1.2系统的稳定性高，运行的连续性强
由于水质的需要，必须在超纯水系统连续运行的各个阶段防止任何可能的失误避免停机现象，因非连续性的产水将引起水质的波动在-个纯水流程中，非稳定的水流将导致水的污染，如颗粒的产生。
1.3投产前需时短
基于半导体市场的资金压力，时间是一个重要因素，需要尽量压缩从决策建厂到投产运行间的时间，即投产前需时：对于超纯水系统，要缩短超纯水设备工程的投产前需时，就要对超纯水设备的生产时间及安装、调试时间进行优化
1.4超纯水设备系统有一定的灵活性，易于扩产
半导体业由于技术发展迅速、市场变化大，其生产能力具有波动性。所以，要求与之配套的超纯水系统要有一定的可调节性、留有合理的余量，易于扩产随着0.25uum和0.18um甚至0.08wm线宽技术的引入，对超纯水设备供水的灵活性，安全性，及时性提出了更高的要求，

乐依文半导体15T/H超纯水设备